蒸发镀膜设备工作方式就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发、升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺.

    在真空条件下成膜可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。

    通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。

蒸发镀膜设备

1. 关闭泵加热系统，然后分离蒸镀室（主要清洁灰尘，于蒸镀残渣）
2. 关闭电源或程序打入维护状态。真空蒸发镀膜机
3. 清洁卷绕系统（几个滚轴，方阻探头，光密度测量器）
4. 清洁中罩室（面板四周）。溅控溅射镀膜机
5. 泵系统冷却后打开清洁（注意千万不能掉入杂物，检查泵油使用时间与量计做出更换或添加处理）
6. 检查重冷与电气柜设备。立式单开门镀膜设备

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