‌真空镀膜设备‌的工作原理主要基于物理沉积现象，具体分为蒸发和溅射两种主要方式。

　　‌蒸发镀膜‌：在真空状态下，通过电阻加热、电子枪加热等方式使靶材(待镀材料)蒸发，蒸发的原子在真空环境中沉积在基片(待镀物体)上，形成薄膜。这种方式适用于金属、合金等材料的镀膜。

　　‌溅射镀膜‌：磁控溅射是一种常见的溅射镀膜方式。在真空室中，通过磁铁和电场的作用，使惰性气体(如氩气)电离产生等离子体。

　　等离子体中的离子在电场作用下加速撞击靶材，使靶材表面的原子溅射出来并沉积在基片上形成薄膜。这种方式适用于制备高纯度的金属膜、化合物膜等。

　　真空镀膜设备的应用领域

　　真空镀膜设备广泛应用于半导体、显示、光伏、工具镀膜、装饰镀膜和功能镀膜等领域。其高纯度和均匀性的特点使其在电子、光学、装饰等行业中有重要应用。

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