真空镀膜设备光学监控是高精密镀膜的的首选监控方式之一，精确度的改进源于对光学厚度的监控，是采用间接测控。

　　特别适合于各种膜厚的镀膜监控包括非规整膜监控。

　　最直接的控制方法是石英晶体微量平衡法，保持蒸发速率。

　　只要将仪器与系统控制软件相连接，它就可以控制整个的镀膜过程。但温度较高时，它会变得对温度非常敏感。

　　在长时间的加热过程中，很难阻止传感器跌入这个敏感区域，从而对膜层造成重大误差。

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