二十一世纪真空领域生产工具的技术革命 真空镀膜设备,是集真空技术、蒸发技术、溅射技术及控制技术、膜层技术等多项技术于一体的高新科技产品。

　　涉及机械、真空、电子、光学、薄膜、材料等多门学科理论。

　　一、背景技术： 目前国内各款式的多弧真空镀膜机、磁控真空镀膜机以及多弧、磁控复合真空镀膜机等基本上都是转架轰击结构。

　　这种转架轰击清洗结构对于金属制品来说倒还起点作用, 对于塑料、树脂、亚克力、玻璃、陶瓷等制品,因为它们都是绝缘不导电的,所以转架轰击清洗就失去作用。

　　为了改善膜层的稳定性和各项理化性能指标的重复性、一致性，有人在真空室上增设了条形离子源。这种方案在实际生产中效果甚微,仅起到镀膜前期的轰击清洗作用,靶与条形离子源为90°角,离化效果差 ,根本起不到辅助镀膜作用,仅起轰击清洗作用。 可见,由于离化率低，存在着以下弊端：

　　1、转架轰击、条形离子源离化效果远远达不到要求。

　　2、金属制品(装饰膜)必需加温镀制(200℃左右)才不影响膜层附 着力。

　　3、镀制塑料、树脂、亚克力、玻璃、陶瓷等制品, 很难镀上膜或根本镀不上膜,而且塑料、树脂、亚克力等制品很容易热变形，更不用说加温了。

　　4、由于必需加温镀制镀膜,镀件硬度变软(如阳江不锈钢刀硬度降幅不允许≥5度，因整个行业镀膜都达不到硬度降幅为0的水平，所以刀具行业没有办法，只能定这个硬度降幅标准了)。

　　5、有色金属制品(如铜、铝、锌、镁等) 必需经过水镀后才能镀上膜层。

　　6、陶瓷制品(如宫廷陶瓷罐等)表面了上釉就镀不上膜层。

　　7、水镀都镀不了的汽车烟灰缸，此类型镀膜机就根本镀不上膜。二、一种新颖镀膜工艺应用技术诞生： 011真空技术工作室发明的新颖镀膜工艺应用技术，在PVD沉积镀膜时提供一种独特的等离子来增强大面积离化效应而实现低温离子镀膜。

　　1、低温离子镀膜关键在于离子装置所产生的离化效应以及它的安装位置,在特定的区域内形成一个独特的等离子区域，这样就充分发挥离子的作用, 离子分布均匀,离化效应好,大大地改善镀膜效果。

　　2、本新颖镀膜工艺应用技术在镀膜过程中为边镀膜边轰击, 而且为大面积离子放电，高能量的离子打入工件表面，使膜层与工件间形成显微合金层，提高结合强度，这样更促进离子辅助镀膜作用,大大地改善膜层的附着力及膜层的稳定性和均匀性。 3、由于离子充分发挥得当,离化效应好,镀制塑料、树脂、亚克力、玻璃、陶瓷等制品很容易镀上膜,而且塑料、树脂、亚克力等制品不易变形，塑料制品不喷涂底漆，直接在塑料制品镀膜。

　　4、由于边镀膜边轰击, 金属制品不需加温直接镀制膜层, 实现低温镀膜,附着力特强。

　　5、低温镀膜离子装置很容易完成二次辉光或多次辉光。

　　6、本新颖镀膜工艺应用技术最大特点：

　　1)、充分发挥离化效应，无论是金属镀件还是非金属镀件直接镀膜，膜层附着力特强。

　　2)、离化效应好, 金属制品不需加温直接镀制膜层,实现低温镀膜,去掉传统的加热装置，节电30%以上，镀膜时间节省10%以上，提高工效当然就省钱。

　　3)、由于低温镀膜,镀件硬度不变，硬度降幅为0(如阳江不锈钢刀及阳江陶瓷刀)。

　　4)、离化效应好,有色金属制品(如铜、铝、锌、镁等)不需水镀直接镀制膜层。

　　5)、发挥离化效应，陶瓷制品表面无论上釉还是不上釉，均可直接镀制膜层。

　　6)、大面积离化效应,水镀都镀不了的汽车烟灰缸在此镀膜机上就很容易镀上膜。

　　本工艺应用技术属于真空镀膜物理气相沉积(PVD)离化效应技术，是真空表面处理设备中一种新颖镀膜工艺应用技术。

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