高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）

    野马真空系统（MVS）有在产业规模PVD沉积室，包括大面积HIPIMS阴极能够提供广泛的增强部件的耐磨性和性能的独特结构的硬盘，摩擦学涂料生产的重要经验。

    在2005年和2007年，MVS是在北美的第一个商业组织接受和使用电源（Chemfilt / SINEX的Huettinger）工业HIPIMS溅射应用。 自该日起显着的进步和研发，导致其日常规范中的各种金属和陶瓷的商业涂料应用。

    该技术适用于非常高的功率密度的脉冲（> 1000Wcm -2，可选择的脉冲持续时间50-200μS和100-500Hz的频率）的磁控管阴极产生异常高的等离子密度为10 19米-3或更大的顺序。 这种脉冲的功率密度可以显着更高水平电离（最多约80％）比通常出现在常规的磁控溅射工艺（约1-2％）释放的靶表面的金属物种。

楼盘，等Helmersson固体薄膜，513，1-2，2006，1-24。

    这些特性可以被用于产生显着的变化，膜的密度和优选的生长方向/方位。 HIPIMS薄膜表现出非常光滑的表面，而不创造过量辐射采暖或宏观粒子掺入通常使用时如发现电弧蒸发源。 这导致致密，粘附膜，即使在非常低的衬底温度是从宏观生长缺陷。