真空鍍膜技術是真空應用技術的壹個重要分支，它已廣泛地應用於光學、電子學、能源開發，理化儀器、建築機械、包裝、民用制品、表面科學以及科學研究等領域中。

　　真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沈積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沈積法。

　　由於各種電真空器件的工作原理是基於電場、磁場來控制電子在空間的運動借以達到放大、振蕩、顯示圖象等目的。

　　因此避免電子與氣體分子間的碰撞，保證電子在空間的運動規律，防止發射熱電子的陰極氧化中毒，把電子器件內抽成不同電真空器件所要求的不同真空度、保證電子器件的正常工作，是絕對必要的。

　　目前電真空工業中所生產的電真空器件主要有各種電子管 ( 整流管、發射管、收信管、速調管、行波管、磁控管、光電管等 ) ;各種離子管 ( 泵弧整流管、引燃管、計數管、閘流管、噪音管、雷達電線開關等 ) ;各種電子束管 ( 示波管、攝象管、顯象管、 x 光管、變象管等 ) ;各種電光源管 ( 照明燈，光譜燈、儀器用燈等 ) 以及中子管、電子衍射儀、電子顯微鏡、 x 光顯微鏡，各種粒子加速器、質譜儀、核輻射譜儀、氣體激光器以及利用真空中電子束進行除氣、熔煉、區域提純、難熔金屬和介質的熔化和鉆孔，開槽切割、放射性同位素的蒸發，難熔金屬的焊接等許多方面。

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