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| PVD镀膜设备是怎样工作的？ |
| 发布时间：2024-12-09 浏览： 次 |
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PVD镀膜设备的工作原理基于物理气相沉积(PVD)技术，主要通过以下步骤实现薄膜的沉积： 真空环境的创建：首先，设备需要在高真空环境下工作，以减少空气分子对蒸发或溅射出的膜体分子的碰撞，确保结晶体细密光亮。高真空环境通过机械泵、罗茨泵和扩散泵或分子泵等设备实现。 膜体材料的释放：膜体材料(如金属、合金、化合物等)通过加热蒸发或溅射的方式被释放出来。蒸发过程是通过电阻加热或电子束加热使膜体材料蒸发成气态分子;溅射过程则是利用高能粒子(如氩离子)轰击靶材，使靶材原子或分子被溅射出来。 分子的沉积：蒸发或溅射出的膜体分子在真空室内自由飞行，最终沉积在基材表面。在沉积过程中，分子会经历吸附、扩散、凝结等阶段，形成一层或多层薄膜。 镀膜完成后的冷却：镀膜完成后，需要对设备进行冷却，使薄膜在基材上固化。这一过程有助于增强薄膜与基材的结合力，提高薄膜的稳定性和耐久性。 本文由真空镀膜机厂家爱加真空收集整理自网络，仅供学习和参考! |
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